0.5nm重复精度台阶仪, 进口自动台阶仪替代, 批量晶圆测试设备, 透明晶圆测量方案
泽攸科技全自动台阶仪——0.5nm超高精度晶圆量产检测系统。集成EFEM自动传输+双摄像头对位，支持8寸晶圆批量处理（≥10片/小时），±10um定位精度满足半导体在线检测需
作为国产高精度表面测量设备的代表，凭借其创新的技术架构、灵活的应用场景及可靠的测量性能，可以对微纳结构进行膜厚和台阶高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量，在高校、研究实验室和研究所、半导体和化合物半导体、高亮度LED、太阳能、MEMS微机电、触摸屏、汽车、医疗设备等行业领域有着广泛应用。
关键技术指标 | 指标要求 |
台阶高度最大范围 | 1mm |
台阶高度重复性 | ≤0.5nm |
探针加力范围 | 0.5mg~50mg |
单次扫描长度 | ≤55mm |
晶圆尺寸 | 可兼容6寸、8寸Wafer |
晶圆厚度 | ≤50mm |
晶圆材质 | 硅、钽酸锂、玻璃等（不透明，半透明，透明） |
图像识别系统精度 | 定位精度优于±10um |
机械动作稳定性 | 马拉松传送测试>500片 |
生产效率 | WPH≥10片（单面量测>=5个位置） |
