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德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机
ULTRA半导体级图形发生器采用平行化曝光制程技术，适合用于先进封装、半导体、显示器、彩色滤光片、LED和触摸屏等相关掩膜版制作，具有高精度设备架构和先进的Mura校正功能。VPG+系统支持多种工业等级数据格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。
所属分类：
海德堡 HEIDELBERG INSTRUMENTS
产品编号：
无
- 产品描述
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ULTRA半导体级图形发生器采用平行化曝光制程技术，适合用于先进封装、半导体、显示器、彩色滤光片、LED和触摸屏等相关掩膜版制作，具有高精度设备架构和先进的Mura校正功能。VPG+系统支持多种工业等级数据格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。
光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统
VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。
VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。
VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。
VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。
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